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  • 日本限制韩国EUV工艺关键材料,三星电子领先地位将受威胁

    来源:www.honkerbase.com 发布时间:2019-09-28

    最近,日韩之间的贸易战愈演愈烈。日本宣布,出口到韩国时,氟基聚酰亚胺(氟聚酰亚胺),半导体制造中的芯材光刻胶和高纯氟化氢(Eatching Gas)将不予优惠。出口商每次发货时都必须获得许可,获得许可证大约需要90天。

    日方对此非常强硬。一些分析师指出,由日本市场主导的Mask Blank也有可能成为下一个受害者。三星EUV项目可能会受到影响。

    根据《韩联社》,可以在日本添加的限制包括集成电路(IC),电源管理IC(PMIC),光刻设备,离子注入器,晶片,掩模版基板等。值得注意的是,EUV工艺中使用的光致抗蚀剂是无可替代的,日本公司在晶圆和光罩基板市场中占有很高的市场份额。日本的运动将直接影响三星的EUV流程。

    目前,三星处于与台积电竞争的5nm工艺的关键时刻,这对三星电子来说无疑是一个重大打击。三星已经收到了NVIDIA GPU7nm芯片的订单。最近,Nvidia已经明确表示它不是三星的独家OEM,而是使用三星和台积电的7nm工艺。

    据报道,接近三星的消息人士表示,三星的部分研究计划已受到影响。三星必须暂时停止与EUV光刻相关的芯片开发,以确保关键的光刻胶供应得到保证。

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